イオンプレーティングによる表面改質
- 母材となる材料の表面に各種金属・セラミックを薄膜の状態で均一に付着させることにより、精密な表面改質が可能となります。
- 皮膜はPVD（物理蒸着法）の一種であるイオンプレーティング方式で作成されます。皮膜材料を真空槽の中で蒸発させ放電を利用してイオン化すると、このイオンが負電荷の基板に対して加速衝突し、緻密で付着力の強い機能性薄膜を形成します。
イオンプレーティングによる表面改質の特長
- 緻密で径時変化が少ない
- 基板との密着力が強い
- 低温での処理が可能
- 反応性イオンプレーティングが可能
- 成膜材料の汎用性が高い
イオンプレーティングによる表面改質の適用例
- セラミック基板への電極形成
- SUS基板への絶縁保護膜形成
- チタン基板への不溶性電極形成